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使用動(dòng)態(tài)光散射法測量顆粒大小和顆粒大小分布(顆粒大小和顆粒大小分布),并使用靜態(tài)光散射方法測量**分子量、慣性半徑和**維真實(shí)系數。
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特點(diǎn) ■納米SAQLA的特點(diǎn) 一臺儀器可輕松連續測量 5 個(gè)樣本,無(wú)需自動(dòng)采樣器即可實(shí)現 多個(gè)樣本的連續測量,也可以通過(guò)改變每個(gè)樣本的條件進(jìn)行測量。 支持從稀釋到厚系統 標準測量時(shí)間 1 分鐘的高速測量 自動(dòng)調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置,實(shí)現約 1 分鐘的高速測量 簡(jiǎn)單易懂的測量功能(只需單擊一下即可 開(kāi)始測量),無(wú)需復雜的操作 內置非浸沒(méi)式細胞塊,無(wú)分包的無(wú)孔, 每個(gè)細胞都是獨立的,因此無(wú)需擔心不成問(wèn)題。 配備 溫度梯度功能,可輕松設置溫度 ■AS50的特點(diǎn) 連續測量多達 50 個(gè)樣本 即使在測量過(guò)程中也能添加樣品 樣品集簡(jiǎn)單方便(*多可批量更換 50 個(gè)樣品) 有機溶劑兼容(玻璃一次性電池) 樣品容量 *小 0.4ml
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該裝置可用于用稀釋溶液到濃縮溶液測量Zeta電位。 測量電滲透流,使用*小容量為 130μL 的一次性電池進(jìn)行測量,可實(shí)現高精度 Zeta 電位測量。 此外,在0~90°C的寬溫度范圍內,可以進(jìn)行自動(dòng)溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
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除了使用傳統稀釋溶液和濃縮溶液測量Zeta電位和顆粒直徑外,該裝置還能夠測量分子量。 對應于顆粒大小測量范圍(0.6nm 至 10μm)和濃度范圍(0.00001% 至 40%)。 測量電滲透流,使用*小容量為 130μL 的一次性電池進(jìn)行測量,可實(shí)現高精度 Zeta 電位測量。 此外,在0~90°C的寬溫度范圍內,可以進(jìn)行自動(dòng)溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
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[通過(guò)光散射評估物理性能在 ELSZneo 中進(jìn)入一個(gè)新的階段] 除了在 ELSZseries 的**型號上用稀釋溶液到濃縮溶液測量 Zeta 電位和顆粒直徑外,該裝置還允許分子量測量。 作為一項新功能,我們采用了多角度測量,以提高顆粒大小分布的分離能力。 此外,還可以進(jìn)行顆粒濃度測量、微流變測量和凝膠網(wǎng)絡(luò )結構分析。 新開(kāi)發(fā)的 Zeta 電位平板電池單元采用新開(kāi)發(fā)的高鹽濃度涂層,可在高鹽濃度環(huán)境中(如鹽水)進(jìn)行測量。 我們還推出了超微量電池單元,可在 3μL 下測量顆粒大小,為生命科學(xué)領(lǐng)域擴展了可能性。
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除了常規的 zeta 電位和粒度測量外,它是一種可以測量分子量的設備,可通過(guò)稀溶液至濃溶液進(jìn)行測量。 支持粒度測量范圍(0.6 nm 至 10 μm)和濃度范圍(0.00001% 至 40%)??梢允褂?小容量為 130 μL 或更大的一次性樣品池進(jìn)行測量,通過(guò)實(shí)際測量電滲流來(lái)實(shí)現高精度的 zeta 電位測量。 此外,通過(guò)在0~90°C的寬溫度范圍內進(jìn)行自動(dòng)溫度梯度測量,可以進(jìn)行變性/相變溫度分析。
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支持OLED用偏光板、層疊型相位差板、IPS液晶相位差板偏光板等各種薄膜的相位差測量裝置。 實(shí)現與超高 Re.60000 nm 兼容的高速、高精度測量。 可以“無(wú)剝離”和“無(wú)損”測量薄膜的層壓狀態(tài)。 此外,它配備了簡(jiǎn)單的軟件和校正功能,支持由于樣品重新定位而導致的錯位,從而實(shí)現簡(jiǎn)單且高精度的測量。
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它是一種可以在在線(xiàn)薄膜生產(chǎn)現場(chǎng)測量薄膜厚度的設備。 通過(guò)將開(kāi)創(chuàng )的光譜干涉儀與新開(kāi)發(fā)的高精度膜厚計算處理技術(shù)相結合,可以以 0.01 秒的測量間隔以*短的。
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除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外,我們還通過(guò)實(shí)現測量角度的自動(dòng)可變機構來(lái)支持所有類(lèi)型的薄膜。除了傳統的旋轉式光子檢測器方法外,還通過(guò)提供相位差板的自動(dòng)裝卸機構提高了測量精度。
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它是一種緊湊且價(jià)格低廉的薄膜厚度計,通過(guò)高精度光學(xué)干涉法實(shí)現薄膜厚度測量,操作簡(jiǎn)單。 我們采用一體式外殼,將必要的設備容納在主體中,實(shí)現穩定的數據采集。 可以通過(guò)以低廉的價(jià)格獲得優(yōu)良反射率來(lái)分析光學(xué)常數。
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OPTM 是一種通過(guò)使用顯微光譜法測量微小區域的優(yōu)良反射率,實(shí)現高精度薄膜厚度和光學(xué)常數分析的設備。 各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等涂膜的厚度可以非破壞性和非接觸方式測量。測量時(shí)間為1秒/點(diǎn)的高速測量是可能的。它還配備了軟件,即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數。
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使用固態(tài)激光器和高靈敏度檢測器(冷卻光電子雙管),可以測量0.5納米至5000納米顆粒的粒度和粒度分布(粒度和粒度分布)。