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  • 支持從反射/透射型 LCD 填充單元到帶濾色器的空單元的各種單元
  • 非常適合FPD生產(chǎn)過(guò)程中的所有檢測，如濾色片光學(xué)特性檢測和玻璃基板膜厚檢測。
  • “一步操作”是一種追求用戶(hù)友好性的設備，無(wú)需任何繁重的工作，設置樣品即可立即看到結果。 該設備旨在縮短檢測過(guò)程，無(wú)需校準曲線(xiàn)即可高精度、高分辨率地輕松找到優(yōu)良厚度。 由于使用了大冢電子開(kāi)創(chuàng )的光學(xué)方法，因此可以在不接觸的情況下高精度測量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品，同時(shí)節省空間。
  • 它以非接觸方式測量晶片等的研磨和拋光過(guò)程，具有超高速、實(shí)時(shí)和高精度的晶片和樹(shù)脂。
  • 除了可實(shí)現高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過(guò)實(shí)施自動(dòng)可變測量機制支持所有類(lèi)型的薄膜。除了傳統的旋轉光子檢測器方法外，還通過(guò)為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機制來(lái)提高測量精度。
  • 實(shí)現具有波長(cháng)依賴(lài)性的高精度多層膜測量
  • 它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計，它通過(guò)簡(jiǎn)單的操作實(shí)現了高精度光學(xué)干涉測量的薄膜厚度測量。 我們采用一體式外殼，將必要的設備安裝在主體中，實(shí)現了穩定的數據采集。 通過(guò)以低廉的價(jià)格獲得**反射率，可以分析光學(xué)常數。
  • 它是一種通過(guò)使用顯微光譜測量微小區域內的優(yōu)良反射率，實(shí)現高精度膜厚和光學(xué)常數分析的設備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等鍍膜的厚度?？蛇M(jìn)行1秒/點(diǎn)測量時(shí)間的高速測量。它還配備了軟件，即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數。
  • 能夠從低亮度到高亮度進(jìn)行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計。 大冢電子獨特的光譜光學(xué)設計和信號處理電路采用電子冷卻線(xiàn)陣傳感器，實(shí)現了在寬亮度范圍和波長(cháng)范圍內的低噪聲和高精度測量。
  • 支持紫外到近紅外區域的多功能多通道光譜檢測器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內測量。標準光纖可以在不指定樣品類(lèi)型的情況下支持各種測量系統。除了顯微光譜、光源發(fā)射、透射/反射測量外，還可以通過(guò)結合軟件支持物體顏色評估、膜厚測量等。

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