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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量?jì)xFE-300 多功能橢偏儀 橢偏儀系統 橢圓偏振光測量?jì)x
詳情介紹:
產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
- 支持從薄膜到厚膜的廣泛薄膜厚度
- 使用反射光譜進(jìn)行薄膜厚度分析
- 緊湊、低成本、非接觸式、無(wú)損、高精度測量
- 易于設置條件和測量操作! 任何人都可以輕松測量薄膜厚度
- 通過(guò)峰值巴雷法、頻率分析法、非線(xiàn)性*小二乘法、優(yōu)化法等多種膜厚度測量
- 非線(xiàn)性*小二乘法的厚度分析算法允許光學(xué)常數分析(n:折射率、k:消光計數)
測量項目
- **反射率測量
- 薄膜厚度分析(10層)
- 光學(xué)常數分析(n:折射率,k:消光計數)
測量對象
-
功能膜、塑料
透明導電膜(ITO、銀納米線(xiàn))、緩速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋劑等。 -
半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。 -
表面處理
DLC 涂層、防銹劑、防霧劑等 -
光學(xué)材料
過(guò)濾器、AR 涂層等 -
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、密封劑)等 -
其他
硬盤(pán)、磁帶、建筑材料等
原則
測量原理
Otsuka 電子采用光干涉法和內部制造的高精度分光光度計,可實(shí)現非接觸式、無(wú)損和高速高精度薄膜厚度測量。 光干涉法是一種利用光學(xué)系統獲得的反射率來(lái)確定光學(xué)厚度的方法,如圖2所示。該光學(xué)系統使用光譜光度計獲得光學(xué)厚度。 以涂覆在金屬基板上的膜為例,從目標樣品上方入射的光在膜表面反射(R1)。 此外,通過(guò)薄膜(R2)的光在基板(金屬)或膜界面反射。 測量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉現象,并從獲得的反射光譜和折射率計算薄膜厚度的方法稱(chēng)為光干涉法。 有四種分析方法:峰巴雷法、頻率分析法、非線(xiàn)性*小二乘法和優(yōu)化法。
規格
手勢
測量波長(cháng)范圍 | 300~800nm | |
測量膜厚度范圍 (SiO2轉換) |
3nm~35μm | |
點(diǎn)直徑 | φ1.2mm | |
樣本大小 | φ200×5(H)mm | |
測量時(shí)間 | 0.1~10s以?xún)? | |
電源 | AC100V±10% 300VA | |
尺寸、重量 | 280(W)×570(D)×350(H)mm、24kg | |
其他 | 參考板,食譜創(chuàng )建服務(wù) |
軟件屏幕
塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司代理、直營(yíng)各日本品牌工業(yè)產(chǎn)品,聯(lián)系人:張小姐
聯(lián)系電話(huà):15902189399
江蘇地區代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量?jì)xFE-300
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