產(chǎn)品名稱(chēng)：OTSUKA大塚電子OPTM-A2光學(xué)測量膜厚計代理

OTSUKA大塚電子OPTM-A2光學(xué)測量膜厚計塔瑪薩崎電子中國代理

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• **反射率測量
• 膜厚分析
• 光學(xué)常數分析（n：折射率，k：消光系數）

半導體晶體管通過(guò)控制電流來(lái)傳輸信號，并嵌入絕緣膜以絕緣晶體管，以防止電流泄漏和另一個(gè)晶體管的電流通過(guò)任意通道。 絕緣膜含有SiO₂使用（二氧化硅）和SiN（氮化硅）。 二氧化硅₂用作絕緣膜，SiN為SiO₂作為更高的介電常數絕緣膜或作為不必要的SiO₂在去除 CMP 時(shí)用作塞子，然后去除 SiN。 因此，必須測量這些薄膜厚度，以確保絕緣薄膜的性能和**的過(guò)程控制。

液晶顯示器一般具有右圖所示的結構。 CF在一個(gè)像素處具有RGB，是一種非常高清的微圖案。 主流的CF成膜方法是將顏料基彩色抗蝕劑涂在玻璃的整個(gè)表面，通過(guò)光刻技術(shù)曝光和顯影圖像，每個(gè)RGB只留下圖案化部分。 此時(shí)，管理薄膜厚度值很重要，因為如果彩色抗蝕劑的厚度不是恒定的，則會(huì )導致圖案變形并作為濾色器的顏色變化。

近年來(lái)，使用具有各種功能的高性能薄膜的產(chǎn)品已經(jīng)變得司空見(jiàn)慣，并且根據用途，可能需要在薄膜表面具有摩擦，沖擊，耐熱和耐化學(xué)性等性能的保護膜。 通常形成硬涂層（HC）膜作為保護膜層，但是由于HC膜的厚度可能無(wú)法用作保護膜，可能會(huì )在薄膜上產(chǎn)生翹曲，或者可能導致外觀(guān)不均勻或變形，因此有必要控制HC層的厚度值。

ITO（氧化銦錫）是一種用于液晶顯示器的透明電極材料，在成膜后通過(guò)退火（熱處理）來(lái)提高導電性和色度。 那時(shí)，氧態(tài)和結晶度也會(huì )發(fā)生變化，但這種變化可能會(huì )隨著(zhù)薄膜的厚度逐步改變斜率，并且不能將其視為具有光學(xué)均勻成分的單層薄膜。 對于這樣的 ITO，我們將介紹一個(gè)使用傾斜模型測量上下界面 nk 傾斜度的示例。

如果樣品表面有粗糙度，則可以將表面粗糙度建模為“粗糙度層”，其中大氣（空氣）和膜厚材料以1：1的比例混合以分析粗糙度和膜厚。 在這里，我們描述了一個(gè)測量表面粗糙度為幾納米的SiN（氮化硅）的示例。

干涉濾光片通過(guò)沉積膜厚和NK控制的膜，可以在指定的波長(cháng)波段內具有任意的反射率和透射率。 其中，*高精度的薄膜是通過(guò)多次重復薄膜作為高折射率層和低折射率層的一對（組）而形成的。 描述了使用超晶格模型測量和分析此類(lèi)樣品的示例。

OLED材料對氧氣和濕氣敏感，在正常氣氛中可能會(huì )改變或損壞。 因此，成膜后，立即用玻璃密封。 描述了在密封時(shí)通過(guò)玻璃測量薄膜厚度的示例。 玻璃和中間空氣層采用非干涉層模型。

為了使用*小二乘法進(jìn)行擬合并分析薄膜厚度值（D），需要材料的NK。 如果 nk 未知，它將 d 和 nk 解析為變量參數。 但是，對于D為100nm或更小的超薄膜，D和NK無(wú)法分離，這會(huì )降低精度并且可能無(wú)法提供準確的D。 在這種情況下，測量具有不同d的多個(gè)樣品，并假設nk相同，則執行同時(shí)分析（多點(diǎn)相同分析）。 這使得準確找到 nk 和** d 成為可能。

對于基板表面未反射的粗糙度較大的樣品，散射會(huì )降低測量的光，并使測量的反射率低于實(shí)際水平。 通過(guò)使用界面系數考慮基板表面反射率的降低，可以測量基板上薄膜的膜厚值。 例如，我們將描述一個(gè)測量發(fā)際線(xiàn)成品鋁基板上樹(shù)脂膜厚度的示例。

DLC（類(lèi)金剛石碳）是一種無(wú)定形碳基材料。 它具有高硬度、低摩擦系數、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性和與其他材料的親和力提高等特點(diǎn)，并用于各種應用。 近年來(lái)，根據每種應用對薄膜厚度測量的需求不斷增加。
DLC厚度測量通常通過(guò)破壞性檢查進(jìn)行，其中制備監視器樣品并用電子顯微鏡觀(guān)察樣品的橫截面，但大冢電子采用的光學(xué)干涉膜測厚儀可以無(wú)損高速測量。 通過(guò)改變測量波長(cháng)范圍，可以測量從超薄膜到超厚薄膜的各種薄膜厚度。
通過(guò)采用獨特的顯微鏡光學(xué)系統，可以實(shí)際測量形狀的樣品而不是監視器樣品。 此外，通過(guò)在用監視器檢查測量位置的同時(shí)進(jìn)行測量，可用于分析異常原因。
我們?yōu)楦鞣N形狀提供定制的傾斜和旋轉平臺。 可以測量實(shí)際樣品中的任何多個(gè)位置。
對于光學(xué)干涉膜厚系統的弱點(diǎn)，除非知道材料的光學(xué)常數（NK），否則無(wú)法進(jìn)行準確的膜厚測量的問(wèn)題，通過(guò)使用我們**的分析方法同時(shí)分析預先制備的多個(gè)不同厚度的樣品，可以獲得比傳統方法更高的NK：多點(diǎn)分析。
通過(guò)使用NIST（美國國家標準與技術(shù)研究院）認證的標準樣品進(jìn)行校準來(lái)保證可追溯性。

○ 齒輪 ○ 軸

■類(lèi)金剛石薄膜厚度測量示例

代理品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、偏光片檢測、納米粒度分析儀、ZATA電位儀、相位差膜·光學(xué)材料檢查設備、液晶層間隙量測設備等）、SANKO三高、NPM日脈、東機產(chǎn)業(yè)（粘度計）、CCS（視檢查光源）、Aitec（視檢查光源）、REVOX萊寶克斯（視檢查光源）、EYE巖崎（UV汞燈）、SEN 日森、SERIC索萊克、各類(lèi)日本光源 索尼克（風(fēng)速計、流量計等）、坂口電熱（加熱器、制冷片）、NEWKON新光（針孔機）、NS精密科學(xué)（柱塞泵、高壓耐腐蝕防爆泵）   、SIBATA柴田科學(xué)、SAKURAI櫻井

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