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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱(chēng)：OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商：OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價(jià)格：0
  • 折扣價(jià)格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司OTSUKA大塚 Zeta電位，粒徑，分子量測量系統 ELSZneo OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
詳情介紹：

特征
  • 可在紫外可見(jiàn)光（300~800nm）波長(cháng)范圍內進(jìn)行橢圓參數測量。
  • 能夠對納米量級的多層薄膜進(jìn)行膜厚分析
  • 通過(guò) 400 個(gè)或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
  • 用于薄膜詳細分析的可變反射角測量
  • 通過(guò)創(chuàng )建光學(xué)常數數據庫和添加配方注冊功能來(lái)提高可操作性

 

測量項目
  • 橢圓參數 （tanψ， cosΔ） 測量
  • 光學(xué)常數（n：折射率，k：消光系數）分析
  • 膜厚分析

 

測量對象
  • 半導體晶片
    柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
    SiO    2，Si x Oy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3罪xOy，多晶硅，硒化鋅，BPSG，TiN
    光刻膠光學(xué)常數（波長(cháng)色散）
  • 化合物半導體
    鋁    x加語(yǔ)（1-x）作為多層，非晶硅
  • FPD
    取向膜
  • 各種新材料
    DLC（類(lèi)金剛石碳）、超導薄膜、磁頭薄膜
  • 光學(xué)薄膜
    TiO    2，SiO2，防反射膜
  • 在 G 線(xiàn) （436nm）、H 線(xiàn) （405nm） 和 I 線(xiàn) （365nm）
    等波長(cháng)下進(jìn)行光刻 N，K 評估

 



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