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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱(chēng)：AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商：AMAYA天谷制作所
  • 產(chǎn)品價(jià)格：0
  • 折扣價(jià)格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
氣相沉積設備 ● ±2%以?xún)鹊哪ず窬鶆蛐? ● 低溫工藝對應 ● 抑制 顆粒產(chǎn)生 ● 提高 維護性 ● 緊湊的裝置結構 ● 提高 **性 ● 良好的臺階覆蓋性
詳情介紹：
概述

在密封室中，晶圓的沉積表面通過(guò)上部夾頭向下部保持并加熱，
同時(shí)從底部的分散頭吹出工藝氣體。
通過(guò)夾緊，可以提高晶圓表面的溫度均勻性，實(shí)現出色的薄膜厚度均勻性。
此外，通過(guò)防止氣體進(jìn)入晶圓背面，防止背面沉積，防止顆粒粘附在晶圓上和腔室中
。
設備尺寸盡可能緊湊，占用空間*小。
密封室消除了氣體泄漏，提高了工人的**性。

性能
支持的晶圓尺寸 到 8 英寸
氣體種類(lèi) SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3是可選的）
沉積溫度 300～450℃
生產(chǎn)力 ~15張/小時(shí)（500nm成膜時(shí)）
規格

設備尺寸 890mm(W) x 2300mm(D) x 2250mm(H)
加熱機構 電阻加熱
卸載 雙滑塊，機器人 CtoC 輸送
分散頭
（氣體噴嘴） 		圓形
武漢代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

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