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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):SAMCO ICP 蝕刻設備 RIE-800iP

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:SAMCO薩姆肯
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
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簡(jiǎn)單介紹:
高密度等離子蝕刻裝置,采用電感耦合等離子體(工業(yè)塑料廣場(chǎng))作為放電形式。 該設備具有負載鎖室,具有出色的工藝可重復性和穩定性。
詳情介紹:

概述

高密度等離子蝕刻裝置,采用電感耦合等離子體(工業(yè)塑料廣場(chǎng))作為放電形式。 該設備具有負載鎖室,具有出色的工藝可重復性和穩定性。

特點(diǎn)

新型ICP源「HSTC?: Hyper Symmetrical Tornado Coil」

高射頻功率(2 kW 或更高)可高效、穩定地應用,以實(shí)現良好的均勻性。

大流量排氣系統

通過(guò)采用與反應室直接相連的排氣系統,實(shí)現了從小流量、低壓區域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。

下部電極升降機構

優(yōu)化晶圓和等離子體之間的距離,確保良好的平面內均勻性。

易于維護的設計

TMP(渦輪分子泵)易于單元化和更換。

應用示例

? 高精度加工化合物半導體,如 GaN、GaAs 和 InP

?高速加工SiC、SiO

? 蝕刻難蝕刻材料,如鐵電體(PZT、BST、SBT、BT)和電極材料(Pt、Au、Ru、Al)

化合物半導體晶圓的等離子切割,薄型化

選項

難蝕刻材料用特殊電極機構

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