產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱(chēng)：SAMCO ICP 蝕刻設備 RIE-100HiC

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商：SAMCO薩姆肯
  • 產(chǎn)品價(jià)格：0
  • 折扣價(jià)格：0
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簡(jiǎn)單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場(chǎng)）作為放電形式。 無(wú)負載鎖室的設備配置可實(shí)現低成本和節省空間，同時(shí)配備 2 個(gè)盒式磁帶。
詳情介紹：

概述

高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場(chǎng)）作為放電形式。 無(wú)負載鎖室的設備配置可實(shí)現低成本和節省空間，同時(shí)配備 2 個(gè)盒式磁帶。

特點(diǎn)

? 4“ 平面內均勻性：± 1% 或更少，蝕刻速率：1μm/min 或更高

500 張連續加工的批次間穩定性：±0.6%

? 追求節省空間和低成本的大氣輸送平臺

真空夾頭式輸送手在大氣中高速輸送

應用示例

SiO+ 接觸孔加工

等離子去污

光刻膠灰化

表面改性

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