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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):SAMCO液體源CVD設備 PD-200STL

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:SAMCO薩姆肯
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
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簡(jiǎn)單介紹:
PD-200STL 是一種高速等離子CVD設備,用于通過(guò)液體源形成氧化硅 (SiO2) 膜和氮化硅 (SiN) 膜。
詳情介紹:

概述

PD-200STL 是一種高速等離子CVD設備,用于通過(guò)液體源形成氧化硅 (SiO2) 膜和氮化硅 (SiN) 膜。 陰極側護套電場(chǎng)產(chǎn)生的離子能量允許在低溫下形成低應力厚膜。 該裝置具有負載鎖室,可實(shí)現出色的可重復性沉積。

特點(diǎn)

  • 良好的薄膜厚度均勻性和穩定性
  • 高速沉積和應力控制
  • 低溫沉積(80°C~)
  • 階梯覆蓋性?xún)?yōu)異的成膜
  • 控制折射率(使用 Ge、P 和 B)

應用示例

  • SAW 器件的溫度補償膜、鈍化膜
  • MEMS掩膜和氧化膜犧牲層
  • 三維封裝中TSV(Si貫通通孔)側壁的絕緣膜

  • 光波導芯層、包層形成

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