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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱(chēng)：SAMCO等離子體CVD裝置 PD-3800L
產(chǎn)品型號：
產(chǎn)品廠(chǎng)商：SAMCO薩姆肯
產(chǎn)品價(jià)格：0
折扣價(jià)格：0
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簡(jiǎn)單介紹：

小直徑晶片多片處理用等離子體CVD裝置

詳情介紹：

概述

PD-3800L 是一種大規模生產(chǎn)的等離子 CVD 設備，可在 ±360mm 的大面積托盤(pán)中同時(shí)安裝多個(gè)小直徑晶圓。配備負載鎖室，工藝穩定性好。各種硅基薄膜（SiO+、SiN、非晶硅等）可以形成，作為化合物半導體和硅工藝中的層間絕緣膜和鈍化膜。

特點(diǎn)

可在小直徑晶圓的多片同時(shí)成膜
×360mm的大面積托盤(pán)中同時(shí)成膜多張小直徑晶圓。（φ2“×26張、φ3”×12張、φ4“×7張、φ6”×3張）

優(yōu)異的托盤(pán)面內均勻性
獨特的反應室結構，實(shí)現了優(yōu)異的面內均勻性和批次間穩定性。

負載鎖定室可實(shí)現
穩定的工藝。

應用示例

可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各種硅基薄膜。

選項

晶圓移載機允許在盒式?托盤(pán)之間自動(dòng)輸送，從而節省勞動(dòng)力并提高產(chǎn)量。

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產(chǎn)品名稱(chēng)：SAMCO等離子體CVD裝置 PD-3800L

概述

特點(diǎn)

應用示例

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