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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱(chēng)：日本USHIO牛尾分體式投影曝光設備UX-5/ UX-7

  • 產(chǎn)品型號：
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商：USHIO牛尾
  • 產(chǎn)品價(jià)格：0
  • 折扣價(jià)格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
日本USHIO牛尾分體式投影曝光設備UX-5 系列 塔瑪薩崎（蘇州）電子有限公司
詳情介紹：
開(kāi)創(chuàng )TTL非曝光波長(cháng)/對準方式
由于Ushio的磚利技術(shù)“TTL非曝光法波長(cháng)對準”，觀(guān)察掩模標記時(shí)，基板上的對準標記沒(méi)有曝光。此外，由于可以直接觀(guān)察工件標記，因此不會(huì )因掩膜而降低對比度，并且可以進(jìn)行清晰標記的高精度對準。
支持各種對齊標記
由于注冊圖案是“圖案匹配兼容”，因此可以與各種布線(xiàn)圖案對齊，而無(wú)需專(zhuān)用對齊標記。
高分辨率
配備 Ushio 的投影鏡頭“UPL 系列”以實(shí)現高分辨率。支持線(xiàn)和空間=5μm的設計規則的全 面量產(chǎn)。
深い焦點(diǎn)深度
由于焦深較深（± 50 至 100 μm），因此即使因基板的臺階、翹曲和膨脹而導致散焦，也可以獲得與剛剛聚焦相當的圖案輪廓。它在暴露厚的干膜和阻焊劑時(shí)特別有效。
表面階段的高速步進(jìn)和重復
通過(guò)使用精密空氣軸承消除摩擦并通過(guò)使用表面電機結構降低運動(dòng)部件的重量和剛度，實(shí)現了高速步進(jìn)和重復操作。此外，表面平臺通過(guò)激光干涉儀進(jìn)行反饋控制，實(shí)現了高速運行和高定位精度。
面罩無(wú)損
由于掩模和工件是非接觸式投影曝光方法，因此不會(huì )因抗蝕劑的粘附而損壞掩模。除了防止布線(xiàn)圖案缺陷外，掩模還可以半長(cháng)久性使用，從而降低運行成本。此外，無(wú)需清洗掩膜版，與緊密接觸式曝光設備相比，預計設備利用率會(huì )有所提高。
保持高堆疊精度以應對板收縮和翹曲
“自動(dòng)縮放功能”可根據板子的收縮和翹曲自動(dòng)將投影放大倍率縮放至 0.1%，對其進(jìn)行校正并大大減少錯位。

型號列表

FC-BGA
FC-CSP
Interposer
2.1D
2.5D
封裝
半導體后處理
RDL
鈍化
TSV
TSV底孔
印刷電路板等
UX-7 系列陣容
型式 UX7-Square70
曝光區 □70毫米
板尺寸 ～□530毫米
面具 6英寸
解析力 2μm L/S
露光波長(cháng) 我線(xiàn)

■ 分辨能力：可分辨高達2 μm L/S

抗蝕劑厚度   5微米
露光量  150mJ/cm 2

■ 曝光面積：70 x 70 mm


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